氮化鋁基板

氮化鋁 (AlN) 散熱基板的熱傳導率為 250 W/mk,
具有高散熱性和電絕緣性

這種氮化鋁基板可同時具有高散熱性和電絕緣性。
此产品保持絕緣性的同時起到散熱的作用,在5G時代被用作功率半導體和光通信鐳射器的散熱基板。
除了一般用途等級 170 W/mk 及高導熱等級 200 W/mk 外,新推出了超高導熱等級 250 W/mk。 该产品使用在需要更高散熱的電子設備的散熱基板用途,贏得了很高的聲譽。

   
高導熱性

推出了導熱率 250 W/mk 

    
減少應力,提高接頭的可靠性

與矽 (Si) 匹配的熱膨脹係數 

   
高抗熱震性

對急冷急熱的可靠性高 

   
滿足廣泛的需求

可提供大面積、厚度1 mmt以上的产品;可以对应 小批量需求; 可提供表面粗糙度從Ra = 1 μm 到鏡面的产品

  
应用领域
・功率半導體
・光通信雷射器支架
(技術)規格
特性/等級/Grade FAN-170 FAN-200 FAN-250F
熱傳導率 W/m・K(RT) 170 200 250
熱發射率 (100℃) 0.93
熱膨脹係數 10-6/℃ (RT 至 400°C) 4.5
絕緣電阻 Ω・cm(RT) >1013
絕緣耐壓 kV/mm(RT) 15
介電常數 (1MHz) 8.8
誘電損失 10-4(1MHz) 5
彎曲強度 MPa 350
密度 g/cm3 3.3
Y(钇) wt% 3.4

 

【外形尺寸】 200 (mm)

【板厚尺寸】0.25~1(mm)

【表面粗糙度】Ra ≦ 0.8 (μm)

【雷射加工】視情況提供可以对应

 

下載目錄 (英文)

聯繫我們

Matsuo Sangyo Co., Ltd.
TEL :+81-45-471-3961
Email: advanced-t@matsuo-sangyo.co.jp